顯微鏡下測(cè)定涂層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

用顯微鏡測(cè)量涂層厚度的方法

用金相顯微鏡測(cè)量涂層的厚度是一種非常直觀的觀察和測(cè)量方法，這在許多文章中都有描述，我相信你已經(jīng)掌握了測(cè)量的方法。工業(yè)視頻顯微鏡將傳統(tǒng)的顯微鏡與攝像系統(tǒng),顯示器或者電腦相結(jié)合,達(dá)到對(duì)被測(cè)物體的放大觀察的目的。體視顯微鏡指從不同角度觀察物體,使雙眼引起立體感覺的雙目顯微鏡。金相顯微鏡電腦型金相顯微鏡或是數(shù)碼金相顯微鏡是將光學(xué)顯微鏡技術(shù)、光電轉(zhuǎn)換技術(shù)、計(jì)算機(jī)圖像處理技術(shù)完美地結(jié)合在一起而開發(fā)研制成的高科技產(chǎn)品，可以在計(jì)算機(jī)上很方便地觀察金相圖像，從而對(duì)金相圖譜進(jìn)行分析，評(píng)級(jí)等以及對(duì)圖片進(jìn)行輸出、打印。在涂層測(cè)量之前，涂層樣品的制備方法也很重要，涂層樣品的制備質(zhì)量直接影響到觀察效果和測(cè)量結(jié)果，如何準(zhǔn)確、標(biāo)準(zhǔn)的取樣？下面通過引入顯微鏡來檢測(cè)涂層的厚度，制備樣品。

首先介紹了顯微鏡的測(cè)量原理和方法。

顯微鏡法測(cè)量覆蓋層厚度可以簡(jiǎn)單且直觀，其基本工作原理是：在待測(cè)件上選取有代表性的試樣，然后我們經(jīng)過一個(gè)適當(dāng)工序制作成符合設(shè)計(jì)要求的橫斷面，通過利用光學(xué)電子顯微鏡，在圖像處理放大下，用校正過的目鏡測(cè)微尺或精度具有較高的標(biāo)尺(如游標(biāo)卡等)測(cè)量覆蓋層橫斷面的知識(shí)寬度，即為覆蓋層的厚度。一般企業(yè)來說，厚度影響較大時(shí)可選擇精度相對(duì)較高的標(biāo)尺直接導(dǎo)致測(cè)量橫斷面寬度；厚度較小時(shí)，則采用目鏡測(cè)微尺。此外，隨著中國工業(yè)顯微鏡向數(shù)字化光電信息圖像分析顯示經(jīng)濟(jì)發(fā)展，數(shù)字化顯微鏡圖像質(zhì)量檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)已經(jīng)開始逐漸應(yīng)用到覆蓋層測(cè)厚領(lǐng)域。該技術(shù)人員使用高分辨率CCD和CMOS攝像機(jī)，將顯微鏡的光學(xué)圖像轉(zhuǎn)換到計(jì)算機(jī)中，然后用專用的測(cè)量管理軟件控制系統(tǒng)需要相關(guān)圖像傳感器測(cè)量。

接下來，我們將介紹樣品的制備方法。

1 橫斷面的要求及制備

1.1 橫斷面的要求

為了精確測(cè)量蓋子的真實(shí)厚度，橫截面必須滿足以下要求：

(1)橫斷面設(shè)計(jì)必須通過垂直于覆蓋層表面；

(2)橫截面表面光滑；

(3)切割和制備橫斷面所引起的變形以及材質(zhì)要去掉；

(4)覆蓋層橫斷面的兩界面線應(yīng)清楚明晰。

制備符合要求的截面是顯微鏡測(cè)厚的關(guān)鍵。 如果制備的橫截面不符合要求，則無論測(cè)量?jī)x器有多精確，都不可能測(cè)量厚度的真實(shí)值。

1.2 橫斷面研究制備的補(bǔ)充說明

斷面的制備包括取樣、鑲嵌、打磨、拋光和蝕刻五個(gè)步驟。標(biāo)準(zhǔn)中給出了橫斷面準(zhǔn)備的相關(guān)導(dǎo)則，可供采用標(biāo)準(zhǔn)時(shí)參考。同時(shí)，應(yīng)注意以下幾點(diǎn)。

2 取樣

一般從待測(cè)件的主要通過表面的一處或多處切取試樣，并具有中國充分的代表性。試樣的截取一個(gè)方法研究可根據(jù)需要金屬結(jié)構(gòu)材料的性能分析不同國家而異。對(duì)于軟材料，可以用鋸、車、刨等方法；對(duì)于硬材料，可以用這種砂輪切片機(jī)切割或電火花加工切割等方法。此外，還可以設(shè)計(jì)采用內(nèi)部金相組織試樣使用切割機(jī)設(shè)備。試樣的大小和形狀以便于握持、易于各種磨制技術(shù)為準(zhǔn)，通常我們采用一種直徑15~20 mm、高15～20 mm的圓柱體或邊長(zhǎng)15～20 mm的立方體。

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